na芯片多少纳米

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消息称三星将于2025年初从ASML引进High-NA EUV光刻机有报道援引消息人士称,三星电子将从ASML引进首台High-NA EUV光刻机EXE:5000,预计2025年初到货。半导体设备安装通常需要较长测试时间,该光刻机预计最快2025年中旬开始运行。High-NA EUV为2纳米以下先进制程所需设备,韩国业界预期,三星也将正式启动1纳米芯片的商用化说完了。

价值3.83亿美元 Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机8月6日消息,在近日的财报电话会议上,Intel CEO宣布已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的等会说。

小K播早报|国办:推进药品和医用耗材集中带量采购提质扩面 我国将在...《科创板日报》6月7日讯今日科创板早报主要内容有:传闻称“监管监控程序化交易撤单”求证:业务细则确将出台;SK称与台积电就加强人工智能芯片合作达成一致;ASML:将获台积电“大量”2纳米相关订单年内向台积电和英特尔交付High-NA EUV光刻机。《科创板日报》主播小K为后面会介绍。

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